现当代中国艺术之国际知名设计师作品

1884 | 朴起好 2012年 匠人的痕迹1(摄影作品)

匠人的痕迹1(摄影作品)

Author: 朴起好

Size: 40×50cm

Signed and dated: 2012年

Estimate:

Final Price: unsold



产地:韩国
材料:数码打印
Park Ki-Ho
朴起好
1986年 罗德岛设计学院 摄影系学士
1987年-2012年 Newsweek 韩国派件记者
2010年 罗德岛设计学院 摄影系硕士
2002年-2004年 中央大学 摄影系讲师
2004年-2007年 延世大学 摄影系助理教授
2010年 罗德岛设计学院 摄影系讲师
个人展
2012年,Kiho Park Photography Show,Gallery Kayafas,波士顿美国
2011年,Everything Must Go,Colburn Gallery,伯灵顿,美国
2007年,Photography & Texture,White Wall Gallery,首尔,韩国
1986年,South Asian Refugees,International Institute,普罗维登斯,美国
出版
Museum of Photography,首尔,韩国
Art Park,首尔,韩国
White Wall,首尔,韩国
获奖
2010年,America:Here and Now,project founded by Eric Fischl
许达哉的韩式茶房墙壁上,还挂着两位韩国摄影艺术家的作品。他们就是通过现代媒介“摄影”来再试图东方思维的作家——朴起好与金东郁。